晒版曝光时应考虑()
晒版后()无图纹潜像。A、过度曝晒B、曝光不足C、未晒版前曝光D、未放置底片
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制版后非印纹版膜部份脱落应()A、再涂布一层感光乳剂晒版B、以印墨修补C、补版胶修补D、重做
晒版中如发现曝光时间不足应()。A、补足曝光B、已无法补救C、放置一段时间后再冲版D、涂布感光剂补强
()不是晒版时造成之错误A、图纹反晒B、曝光时间不对C、版与印纹移位D、底片精细度
晒版前发现底片有瑕疵应()A、重新制作或修正底片B、制版后修正C、减少曝光时间D、加强曝光时间
制版时控制版膜厚度的目的为()A、配合晒版机B、节省感光乳剂C、配合被印物及控制印墨厚度D、配合光波
张网时较不需考虑()A、被印物之形状B、框条之粗细C、印刷面积的大小D、感光乳剂的种类